納米顆粒薄膜在防反射、防霧、自清潔等多功能涂料領(lǐng)域中應(yīng)用廣泛。它也被頻繁用于生產(chǎn)，例如材料保護(hù)層，防止金屬腐蝕等方面。如何制備這些納米顆粒薄膜是值得考慮的問題。我們通常很難從目前的幾種制備方法中選出最適合自己應(yīng)用的方法。但如果薄膜的堆積密度不是首先需要考慮的問題時(shí)，浸漬鍍膜則是目前最簡單的納米粒子涂覆基材的方法。更多百歐林納米薄膜沉積解決方案，請查看產(chǎn)品頁。

浸漬鍍膜工藝流程
理論上，浸漬鍍膜非常簡單。將基材垂直浸入含有納米顆粒的溶液中。首先讓基材保持浸沒在溶液中，并留出一些時(shí)間進(jìn)行納米顆粒沉積；之后，將基材從溶液中提拉出并使其干燥。但是，當(dāng)需要精確控制沉積材料在基材上的性質(zhì)時(shí)（厚度、沉積密度等），浸漬鍍膜的過程也有幾個(gè)因素需要考慮。

浸漬鍍膜過程一般分為三個(gè)步驟：

• 基材浸入
• 納米顆粒吸附和基材表面溶劑排出
• 溶劑揮發(fā)

基材浸入
基材的浸入通常是采用垂直浸入的方法。但為了得到不對稱的沉積厚度，還可以采用不同角度的傾斜浸入方法。浸入通常由計(jì)算機(jī)程序控制，以實(shí)現(xiàn)自動浸入和恒定的浸入速率。浸入后，將基材保留在溶液中，留出足夠的時(shí)間完全潤濕基材。基材和納米顆粒表面的物理化學(xué)性質(zhì)都會影響需要浸漬的時(shí)間長短。

納米顆粒沉積
在浸沒完成之后，將基材從溶液中提拉出�；�材提拉的速度會影響鍍層的均勻性，較高的提拉速度會導(dǎo)致鍍層較厚。因此，在基材提出的整個(gè)過程中應(yīng)該保持速度恒定，并且避免任何振動。
溶液的濃度也是重要的影響因素。濃度太低會導(dǎo)致基材的鍍層不均勻，高濃度溶液會引起溶液相中的納米顆粒團(tuán)聚，從而導(dǎo)致納米顆粒的多層自組裝。因此，合適的溶液濃度對保持鍍膜的均勻性也十分重要。

在某些時(shí)候，可能還會通過將基材浸入多次，從而制備多層薄膜。也可能需要通過加入不同浸漬溶液來生產(chǎn)具有類復(fù)合材料的多層薄膜，這些功能都可以使用我們的多杯浸漬鍍膜機(jī)實(shí)現(xiàn)。基材表面溶劑此時(shí)會被排出。

揮發(fā)
揮發(fā)階段是使溶劑從制備的基材鍍膜中蒸發(fā)。揮發(fā)時(shí)間通常取決于所使用的溶劑，并可以通過加熱基材來減少揮發(fā)時(shí)間。如果是使用揮發(fā)性很強(qiáng)的溶劑（例如酒精），則揮發(fā)可在提拉過程中，溶液排出階段就開始了。

如何選擇正確的沉積方法
如上述討論，浸漬鍍膜提供了一種最簡單快速的納米顆粒沉積方法。但還是需要根據(jù)您的應(yīng)用選擇合適的沉積方式和工藝。如要獲得不同納米顆粒沉積方法的概述，請點(diǎn)擊下載文件5種常見納米顆粒薄膜沉積制備方法。

參考文獻(xiàn)
[1] L. Landau, B., and G. Levich, "Dragging of a liquid by a moving plate", Dynamics of Curved Fronts 1988, 141-153.