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1558 次 PECVD原理及應(yīng)用 2023-7-7
PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vaper Deposition）是等離子增強化學(xué)氣相淀積，該技術(shù)是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產(chǎn)生輝光放電，利用輝光放電（或
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